投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項(xiàng) DATE: 2022-12-23 11:14
國(guó)望光學(xué)研發(fā)生產(chǎn)基地位于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，規(guī)劃建筑面積12萬(wàn)平方米，預(yù)計(jì)2023年投入運(yùn)行后，將擁有350/280nm節(jié)點(diǎn)、90/110nm節(jié)點(diǎn)、28nm及以下節(jié)點(diǎn)極大規(guī)模IC制造投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā)、設(shè)計(jì)與批量生產(chǎn)供貨能力。國(guó)望光學(xué)基本定位是建立我國(guó)自主的超精密光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)體系，形成極大規(guī)模IC制造投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)、高端精密光學(xué)儀器與裝備的批量生產(chǎn)供貨能力，從根本上解決我國(guó)IC制造投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)及高端精密光學(xué)裝備的產(chǎn)業(yè)化問(wèn)題。